重庆纽先科技(惠塔光电材料)
中文版
ENGLISH
首页
关于我们
产品展示
新闻动态
在线留言
联系我们
产品分类
蒸发材料
溅射靶材
陶瓷靶材
金属靶材
光学元件
坩埚及蒸发舟
稀土金属
光伏材料
其他材料
联系我们
电话:
+86-18 423 717 818
E-mail:
sales@cqoptics.com
地址:
重庆市九龙坡区火炬大道
产品
>
溅射靶材
>
陶瓷靶材
> 高密度ITO靶材
产品名称 :
高密度ITO靶材
型号 :
20219914520
材质 :
In2O3+SnO2
规格 :
10*3; 18*8; 24*14; 30*10mm
密度 :
Relative density: ≥ 99.5%
折射率 :
电阻率≤1.6X10-4 Ω·cm
外观 :
黑色块状
纯度 :
4N
应用 :
ITO导电膜,LCD、LED等
←[上一个产品]
[下一个产品]→
询 盘
给我邮件
产品详细:
ITO靶材的生产工艺
1.热等静压法
2.热压法
3.烧结法
采用磁控溅射的方法,将ITO靶材溅射到镀膜玻璃或其它基板上形成ITO膜。
相关产品 :
旋转硅靶
低密度ITO靶材
铟锌氧化物(IZO)靶材
ITO靶材
旋转硅靶
IGZO靶材
氧化钛旋转靶
氧化铝压片
Chinese
Deutsch
Espanol
Francais
Italiano
Portugues
Japanese
Korean
Arabic
Russian
首页
|
关于我们
|
产品展示
|
新闻动态
|
在线留言
|
联系我们
|
网站地图
版权所有 ©
惠塔光学材料有限公司 sales@cqoptics.com
All Rights Reserved